目前多肽合成的技术已经很成熟，但是在多肽合成过程中有时会发生DG重排或者天冬氨酸酰胺化，导致杂质峰离目标峰很贴近，而很难纯化甚至无法分离。从而导致产率降低，为解决此类问题，今天介绍一种Asp的侧链保护基，氰基亚硫酰基，简称CYS。此类方法可有效的减少DG重排和Asp酰胺化导致的杂质，大大提高合成，纯化效率。后面关于DG重排和Asp酰胺化等类似副反应，统称为D酰胺化。
一和二为目前常用策略，三为今天推荐的保护基策略。
一、侧链叔丁氧基
简称OtBu,氨基酸缩写Asp(OtBu)
在一些特殊序列中，此类方法容易发生消旋和产生杂质，如下图所示
二、二肽结构单元
如使用Fmoc-Asp(OtBu)-(Dmb)Gly-OH和Fmoc-Asp(OtBu)-(Hmb)Gly-OH
Dmb：二甲氧基苄基
Hmb：2-羟基-4-甲氧基-苄基
此类方案确实可以减少D酰胺化的几率，（通常添加HOBT或其它添加剂来进一步降低副反应几率），不过偶联效率很低，必须以二肽为单元结构进行偶联。且不能非常有效的阻止D酰胺化这一副反应。
三、氰基亚硫酰基(CYS)
1，氰基亚硫酰基的形成
2，氰基亚硫酰基的去除
3，效果对比展示
4，实例展示(CSY保护基团运用于替度鲁肽的合成)
